低溫恒溫反應槽主要構造及使用，低溫恒溫反應槽是一種用于工業(yè)生產、科研實驗的恒溫裝置，主要用于液氨、液氫等低溫介質的貯存及反應過程控制。 低溫恒溫槽由制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)及控制系統(tǒng)組成。

低溫恒溫反應槽主要構造

   制冷系統(tǒng)的作用是把蒸發(fā)器產生的蒸汽（過熱蒸汽）冷卻至冷凝壓力；把來自蒸發(fā)器的冷凍水在一定的降溫速率下冷卻至所需的溫度（通常為0°C～40°C），以滿足使用要求，即實現制冷循環(huán)。加熱系統(tǒng)的作用是使被冷卻液體保持在所需要的溫度范圍內（通常在常溫附近）；對某些特殊工藝要求而言，還同時具有升溫過程。控制系統(tǒng)包括儀表控制和自動調節(jié)兩部分。通過儀表測量和控制主機的運行狀態(tài)并顯示故障信息；自動調節(jié)是通過自動控制系統(tǒng)的作用將主機工作在最佳狀態(tài)上，以達到更高的工作效率和更好的產品質量指標。

低溫恒溫反應槽使用方法

   當要在水槽內做恒溫測試時，將溫度切換開關撥至內部溫度處即可。 當需要建立溫度場使用時，將本機配備的外部溫度傳感器連接至機器后，先將溫度切換開關撥至內部溫度處，將水槽溫度設定至所需溫度，待儀表顯示溫度穩(wěn)定10~20分鐘后，降溫度切換開關撥至外部溫度處，此時恒溫槽可通過PID溫控儀表控制溫場溫度。 注意：切不可直接將溫度設定開關直接撥至外部溫度處，以免因外部溫度升溫較慢導致恒溫槽內溫度過高，引發(fā)意外事故。

低溫恒溫反應槽應用領域：

恒溫領域：傳感器檢測、恒溫生化反應、恒溫材料老化等。

生化領域：旋轉蒸發(fā)儀、阿貝折光儀、旋光儀、原子吸收、ICP-MS 、ICP、核磁共振、CCD、生物發(fā)酵罐、化學反應器（合成器）等。

材料領域：電鏡、X射線衍射、X熒光、真空濺射電鍍、真空鍍膜機、ICP刻蝕、半導體設備、疲勞試驗機、化學沉積系統(tǒng)、原子沉積系統(tǒng)等。

醫(yī)療領域：超導磁共振、直線加速器、CT、低磁場核磁共振、X光機、微波治療機、醫(yī)用冷帽、降溫毯等等。

物化領域：激光器、磁場、分子泵、擴散泵、離子泵以及包括材料領域。

   低溫恒溫槽可適用于生物工程、醫(yī)藥、食品、化工、冶金、化學分析、石油等領域，為用戶提供一個受控的、溫度均勻的恒定場源，是研究所、高等院校、工廠實驗室、質檢部門，為用戶工作時提供一個冷熱受控，溫度均勻恒定的液體環(huán)境，對試驗樣品或生產的產品在槽內直接進行恒定溫度試驗或測試，可用于直接加熱或制冷，作為輔助加熱或制冷的溫度來源, 如對反應釜、全自動合成儀器、萃取以及冷凝裝置的控溫。